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J-GLOBAL ID:201803001773956520

循環流動層ガス化システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人山田特許事務所
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2014030845
Publication number (International publication number):2015155506
Patent number:6327698
Application date: Feb. 20, 2014
Publication date: Aug. 27, 2015
Claim (excerpt):
【請求項1】 流動媒体粒子を加熱し上部から排ガスとともに流動媒体粒子を排出する流動層燃焼炉と、 前記流動層燃焼炉によって加熱された流動媒体粒子を排ガスから分離する粒子分離器と、 前記粒子分離器によって分離された流動媒体粒子の熱によって、含水ガス化原料を水蒸気の存在下でガス化させてガス化ガスを生成する流動層ガス化炉と、 前記流動層ガス化炉に水蒸気を供給する水蒸気供給手段と、を備えた循環流動層ガス化システムであって、 前記流動層燃焼炉からの排ガスの熱を前記流動層ガス化炉へ供給される前の含水ガス化原料に移動させ含水ガス化原料から水蒸気を発生させる熱交換器と、 前記熱交換器で発生した水蒸気を前記水蒸気供給手段へ導く水蒸気供給流路と、を有する蒸気発生手段を更に備え、 前記流動層ガス化炉へ供給される前の含水ガス化原料を一端側から他端側へ搬送する原料搬送管においては、内部に配設されたスクリューコンベヤにより、外部と前記原料搬送管の内部を含水ガス化原料でシールしつつ含水ガス化原料を運搬するよう構成されており、 前記熱交換器は、前記原料搬送管と、該原料搬送管の周りを囲むように配され、前記流動層燃焼炉からの排ガスが流される外側管とを備えた二重管式であり、 前記原料搬送管は、他端側が前記水蒸気供給流路と接続され、 前記スクリューコンベヤは、他端側のピッチが一端側から中央部までのピッチよりも広くなっていることを特徴とする循環流動層ガス化システム。
IPC (2):
C10J 3/54 ( 200 6.01) ,  C10J 3/56 ( 200 6.01)
FI (4):
C10J 3/54 E ,  C10J 3/54 G ,  C10J 3/54 H ,  C10J 3/56
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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