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J-GLOBAL ID：201803002463528630

水素発生装置及び水素発生方法

Inventor： 三澤 弘明 ,  上野 貢生 ,  ショウ ギョクケイ
Applicant, Patent owner： 国立大学法人北海道大学
Agent (2)： 長谷川 芳樹 ,  諏澤 勇司
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013042860
Publication number (International publication number)：2014169210
Patent number：6230039
Application date： Mar. 05, 2013
Publication date： Sep. 18, 2014
Claim (excerpt)：

【請求項1】チタン酸ストロンチウム或いは酸化チタンである光触媒材料を含む基板と、 前記基板の一方の面に沿って複数領域に分離して配置され、プラズモン共鳴吸収性を有する金属体と、 前記基板の前記一方の面と反対側の他方の面に配置された水素発生触媒と、 前記基板を前記金属体と前記水素発生触媒とともに収容し、前記基板の両面に接触させた状態で水溶液を保持可能な容器と、 を備え、 前記容器は、内部を隔てる隔壁を有し、前記隔壁の中央に前記基板を保持し、 前記容器の内部において、前記隔壁を隔てた前記基板の前記一方の面側に前記一方の面に接触させるように第1の水溶液が保持され、 前記容器の内部において、前記隔壁を隔てた前記基板の前記他方の面側に前記他方の面に接触させるように第2の水溶液が保持される、 ことを特徴とする水素発生装置。

IPC (3)：

C01B 3/04 ( 200 6.01) ,  B01J 35/02 ( 200 6.01) ,  B01J 23/68 ( 200 6.01)

FI (3)：

C01B 3/04 A ,  B01J 35/02 J ,  B01J 23/68 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 水光分解用のモノリス触媒システム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2010-530362   Applicant：ツェーエフエスオー・ゲーエムベーハー
• 水素製造装置および水素製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-274566   Applicant：シャープ株式会社
• 可視光活性光触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-064162   Applicant：本多崇
• チタン酸ストロンチウム焼結体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-168400   Applicant：国立大学法人名古屋大学