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J-GLOBAL ID：201803007078642556

ヘッドスペースバイアルの開口部封止用セプタム形成用積層シート、その製造方法、ヘッドスペースバイアルの開口部封止用セプタムおよびセプタム

Inventor：
白崎 慎也

About 白崎 慎也

, 
高柳 邦重

About 高柳 邦重


Applicant, Patent owner：
株式会社SHINDO

About 株式会社SHINDO


Agent (1)： 久保田 芳譽
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2018048632
Publication number (International publication number)：2018154130
Application date： Mar. 15, 2018
Publication date： Oct. 04, 2018
Summary：
【課題】ヘッドスペースGC用またはヘッドスペースGC-MS用バイアルの開口部封止用セプタムの形成用積層シート,その製法,該積層シートからなるセプタムを提供する。【解決手段】ヘッドスペースGC分析法用またはヘッドスペースGC-MS分析法用バイアルの開口部封止用のセプタムを形成するための積層シートであって、厚さが10〜200μmである芳香族ポリイミドフィルムと、厚さが1.2〜5mmであり,D4-D15含有量が250質量ppm以下であり,補強性充填剤として(A)ヒュームドシリカを含有し、JIS K 6249規定の伸びが380%以上であり、100%モデュラスが0.20〜1.35MPaであるヒドロシリル化反応硬化シリコーンゴム層とが接着して積層しており、120mm平方の積層シート試験片の四隅は、半円弧の一端の形状またはC字の一端の形状に湾曲することがなく、四隅の平均反り値が35mm以下である積層シート。その製法。該積層シートからなるセプタム。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
ヘッドスペースガスクロマトグラフ分析法用またはヘッドスペースガスクロマトグラフ質量分析法用バイアルの開口部封止用のセプタムを製造するための積層シートにおいて、厚さが10〜200μmである芳香族ポリイミドフィルムと、厚さが1.2〜5mmであり,環状ジメチルシロキサン4量体〜15量体の含有量が250質量ppm以下であり,補強性充填剤として(A)ヒュームドシリカを含有し,JIS K 6249で規定する伸びが380%以上であり、100%伸張時の引張応力が0.20〜1.35MPaであるヒドロシリル化反応硬化シリコーンゴム層(I)または、さらに(B)有機官能性オルガノアルコキシシランもしくはその部分加水分解縮合物を含有する前記ヒドロシリル化反応硬化シリコーンゴム層(II)とが接着状態で積層しており、JIS K6854-2(接着剤-剥離接着強さ試験方法-第2部:180度剥離)に基づく剥離接着強さが5N以上であり、縦120mm,横120mmの正方形の積層シート試験片の四隅は,半円弧の一端の形状またはC字の一端の形状に湾曲することがなく,四隅の平均反り値が35mm以下であることを特徴とする、積層シート。
IPC (6)：
B32B 25/08 ,  B32B 25/20 ,  G01N 30/18 ,  G01N 30/72 ,  C08K 3/36 ,  C08L 83/14
FI (6)：
B32B25/08 ,  B32B25/20 ,  G01N30/18 A ,  G01N30/72 A ,  C08K3/36 ,  C08L83/14
F-Term (27)：
4F100AA20B ,  4F100AA20H ,  4F100AH06B ,  4F100AH06C ,  4F100AK49A ,  4F100AK52B ,  4F100AK52C ,  4F100AN02B ,  4F100AN02C ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100CA23B ,  4F100EC032 ,  4F100EJ172 ,  4F100EJ422 ,  4F100GB90 ,  4F100JD02 ,  4F100JK03 ,  4F100JK08B ,  4F100JK08C ,  4F100JK12 ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B ,  4J002CP051 ,  4J002CP191 ,  4J002DJ016 ,  4J002FD010
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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