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J-GLOBAL ID：201803011031304277

不均一系パラジウム触媒を用いたシクロアルカジエンまたはシクロアルケン構造を有する化合物の脱水素反応による芳香族化合物の製造方法

Inventor： 澤間 善成 ,  安川 直樹 ,  門口 泰也 ,  佐治木 弘尚
Applicant, Patent owner： エヌ・イーケムキャット株式会社
Agent (1)： 特許業務法人 小野国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2017103274
Publication number (International publication number)：2018197218
Application date： May. 25, 2017
Publication date： Dec. 13, 2018
Summary：

【課題】シクロアルカジエン構造を有する化合物を脱水素し、芳香族化合物を選択性良く製造する方法を提供する。【解決手段】シクロアルカジエンまたはシクロアルケン構造を有する化合物を、水系溶媒中で不均一系パラジウム触媒を用いて脱水素することを特徴とする芳香族化合物の製造方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

シクロアルカジエンまたはシクロアルケン構造を有する化合物を、水系溶媒中で不均一系パラジウム触媒を用いて脱水素することを特徴とする芳香族化合物の製造方法。

IPC (12)：

C07C 5/42 ,  C07C 69/76 ,  C07C 69/94 ,  C07C 67/317 ,  C07C 205/57 ,  C07C 201/14 ,  C07F 7/18 ,  C07F 7/08 ,  C07C 15/14 ,  C07C 15/24 ,  C07D 333/24 ,  C07D 307/54

FI (12)：

C07C5/42 ,  C07C69/76 A ,  C07C69/94 ,  C07C67/317 ,  C07C205/57 ,  C07C201/14 ,  C07F7/18 J ,  C07F7/08 C ,  C07C15/14 ,  C07C15/24 ,  C07D333/24 ,  C07D307/54

F-Term (23)：

4C023EA15 ,  4C037HA29 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AC12 ,  4H006BA25 ,  4H006BA60 ,  4H006BB31 ,  4H006BJ50 ,  4H006BP30 ,  4H006KA31 ,  4H039CA10 ,  4H039CA41 ,  4H039CB10 ,  4H039CC10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ28 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VS28 ,  4H049VT17 ,  4H049VW02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 4-ビニルシクロヘキセンからエチルベンゼンを製造する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平8-535579   Applicant：クンホセオキュホアハクジュシクヘサ
• ビフェニル誘導体の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-240642   Applicant：日本化薬株式会社
• 特開平1-250334