Pat
J-GLOBAL ID:201803011304160915
多孔性配位高分子複合体の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
加藤 久
, 久保山 隆
, 遠坂 啓太
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2014141597
Publication number (International publication number):2016017055
Patent number:6320207
Application date: Jul. 09, 2014
Publication date: Feb. 01, 2016
Claim (excerpt):
【請求項1】 多孔性配位高分子を溶媒中で合成する多孔性配位高分子の合成工程と、
前記合成工程で合成される多孔性配位高分子を超臨界二酸化炭素により乾燥することで細孔維持された多孔性配位高分子を得る乾燥工程と、
前記乾燥工程で得られる細孔維持された多孔性配位高分子と有効物質とを混合した混合物質を、超臨界二酸化炭素および有機溶媒の混合流体により処理することで、前記細孔維持された多孔性配位高分子に、前記有効物質を含浸させる含浸工程とを有し、
前記多孔性配位高分子が、ジカルボン酸および/またはトリカルボン酸からなる群から選択される少なくとも1以上の有機配位子と、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Al、Mgからなる群から選択される少なくとも1以上の金属のイオンからなる多孔性配位高分子であることを特徴とする
有効物質を多孔性配位高分子に高濃度で含浸させた多孔性配位高分子複合体の製造方法。
IPC (7):
C07C 57/30 ( 200 6.01)
, C07C 63/28 ( 200 6.01)
, C07C 63/307 ( 200 6.01)
, C07F 15/02 ( 200 6.01)
, A61K 31/192 ( 200 6.01)
, A61K 9/22 ( 200 6.01)
, A61K 47/30 ( 200 6.01)
FI (7):
C07C 57/30
, C07C 63/28
, C07C 63/307
, C07F 15/02
, A61K 31/192
, A61K 9/22
, A61K 47/30
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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カルボン酸鉄系有機/無機ハイブリッドナノ粒子
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2010-527489
Applicant:サントルナショナルドゥラルシェルシュスィヤンティフィック(セーエヌエルエス), ユニベルシテドゥベルサイユ-サン-カンタン-アン-イブリーヌ
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多孔性金属錯体、多孔性金属錯体の製造方法、吸蔵材料及び光機能材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2012-192210
Applicant:住友化学株式会社, 昭栄化学工業株式会社, 国立大学法人京都大学
Cited by examiner (2)
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カルボン酸鉄系有機/無機ハイブリッドナノ粒子
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2010-527489
Applicant:サントルナショナルドゥラルシェルシュスィヤンティフィック(セーエヌエルエス), ユニベルシテドゥベルサイユ-サン-カンタン-アン-イブリーヌ
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多孔性金属錯体、多孔性金属錯体の製造方法、吸蔵材料及び光機能材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2012-192210
Applicant:住友化学株式会社, 昭栄化学工業株式会社, 国立大学法人京都大学
Article cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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