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J-GLOBAL ID：201803011335803466

変位を測定する方法

Inventor： 藤垣 元治 ,  村田 頼信 ,  冨田 大樹 ,  森本 吉春 ,  柾谷 明大 ,  楠 芳之 ,  栗林 賢一 ,  得津 明弘 ,  矢島 秀治
Applicant, Patent owner： 国立大学法人福井大学 ,  国立大学法人 和歌山大学 ,  4Dセンサー株式会社 ,  ジェイアール西日本コンサルタンツ株式会社
Agent (1)： あいわ特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016159212
Publication number (International publication number)：2018028439
Application date： Aug. 15, 2016
Publication date： Feb. 22, 2018
Summary：

【課題】橋桁等の測定対象物の変位を容易に計測する計測方法を提供する。【解決手段】本発明による変位計測は、先ず、測定対象物の撮像をおこない、次に、測定対象物の撮影画像に1次元フーリエ変換(FFT)を適用し、さらに、測定対象物の横幅もしくは縦幅に対応する空間周波数成分に対して1次元逆フーリエ変換(IFFT)を適用して位相解析を行い、測定対象物の変位前後の位相解析による位相の位相差から測定対象物の変位量を算出する。【選択図】図11

Claim (excerpt)：

測定対象物の変位前に撮像して得られた前記測定対象物の画像から変位解析方向の1ラインの第1ライン画像データを抽出し、 前記測定対象物の変位後に撮像して得られた前記測定対象物の画像から変位解析方向の1ラインの第2ライン画像データを抽出し、 前記第1ライン画像データと前記第2ライン画像データにそれぞれ1次元フーリエ変換を行ない、 前記1次元フーリエ変換により得られた空間周波数成分のうち前記測定対象物に対応する空間周波数成分に対して1次元逆フーリエ変換により位相解析を行ない、前記変位前と前記変位後の位相差を用いて、前記測定対象物の変位量を測定する方法。

IPC (3)：

G01B 11/02 ,  G01B 11/16 ,  G06T 7/00

FI (3)：

G01B11/02 H ,  G01B11/16 H ,  G06T7/00 300H

F-Term (19)：

2F065AA09 ,  2F065AA22 ,  2F065AA65 ,  2F065CC14 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ39 ,  2F065UU05 ,  5L096BA03 ,  5L096EA33 ,  5L096EA39 ,  5L096FA23 ,  5L096FA32 ,  5L096GA10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

• 磁気記録トラック検査方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-196251   Applicant：松下電器産業株式会社
• 歯の表面形状および色合いの撮像のための装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-124406   Applicant：ケアストリームヘルスインク
• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-103328   Applicant：キヤノン株式会社
• 変位計測装置、方法およびプログラム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-040546   Applicant：国立大学法人和歌山大学
• 変位計測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-056535   Applicant：株式会社ベーシックエンジニアリング
• 撮像手段による実空間長測定方法及び光学系の校正方法、並びに光学系の校正に用いる基準ゲージ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-061847   Applicant：松下電器産業株式会社
• 膜厚測定装置及び方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-041173   Applicant：横河電機株式会社
• 構造物のたわみ量分布監視方法及び監視装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2014-216248   Applicant：国立研究開発法人産業技術総合研究所

Cited by examiner (2)

• 磁気記録トラック検査方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-196251   Applicant：松下電器産業株式会社
• 歯の表面形状および色合いの撮像のための装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-124406   Applicant：ケアストリームヘルスインク