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J-GLOBAL ID：201803015664141313

ナノシリカ中空粒子の製造方法

Inventor： 藤 正督 ,  高井 千加
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 名古屋工業大学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016168674
Publication number (International publication number)：2018035031
Application date： Aug. 31, 2016
Publication date： Mar. 08, 2018
Summary：

【課題】短時間で作成ができ、分散性、粘度、光拡散性を向上させることができ、加えて均質化を図るシリカ中空粒子の製造方法の提供。【解決手段】PAA(ポリアクリル酸)と水酸化ナトリウム水溶液とを混合してコア溶液とし、エタノールに、このコア溶液を加え、エマルジョンとし、このエマルジョンにTEOS(テトラエトキシシラン)を滴下しながら攪拌させ、シリカ殻を形成してコアシェル粒子とし、遠心分離にてコアシェル粒子を洗浄することにより、コア除去する、またはコア溶液混合を、SPG膜乳化法にて行うナノシリカ中空粒子の製造方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

PAA(ポリアクリル酸)と水酸化ナトリウム水溶液とを混合してコア溶液とし、 このコア溶液にエタノールを加え、エマルジョンとし、 このエマルジョンにTEOS(テトラエトキシシラン)を滴下しながら攪拌させ、シリカ殻を形成してコアシェル粒子とし、 遠心分離にてコアシェル粒子を洗浄することにより、コア除去したことを特徴とするナノシリカ中空粒子の製造方法。

IPC (3)：

C01B 33/18 ,  B82Y 30/00 ,  B82Y 40/00

FI (3)：

C01B33/18 Z ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00

F-Term (27)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB16 ,  4G072DD05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ14 ,  4G072JJ22 ,  4G072JJ23 ,  4G072JJ28 ,  4G072JJ30 ,  4G072JJ45 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK03 ,  4G072KK06 ,  4G072KK07 ,  4G072KK17 ,  4G072LL11 ,  4G072MM02 ,  4G072MM03 ,  4G072MM23 ,  4G072MM26 ,  4G072MM33 ,  4G072RR05 ,  4G072UU09 ,  4G072UU15 ,  4G072UU30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• コア-シェル型ナノ粒子
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2009-527049   Applicant：ディーエスエムアイピーアセッツビー.ブイ.
• コア/シェル型粒子およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-335344   Applicant：富士フイルム株式会社
• 非凝集性コア/シェル型ナノコンポジット粒子
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2007-515527   Applicant：ザペンステイトリサーチファウンデーション
• シリカ粒子およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-045799   Applicant：住友化学株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 第29回秋季シンポジウム 講演予稿集, 20160829, 第1D20頁