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J-GLOBAL ID：200903069729259280
シリカ粒子およびその製造方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
久保山 隆
, 中山 亨
, 榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004045799
Publication number (International publication number)：2005231973
Application date： Feb. 23, 2004
Publication date： Sep. 02, 2005
Summary：
【課題】 樹脂成形体の熱伝導度を従来よりさらに高めることができる樹脂フィラーとなるシリカ粒子およびその製造方法を提供する。【解決手段】 形状が球状であり、α石英、トリジマイトおよびクリストバライトからなる群より選ばれる2種以上の結晶形を有することを特徴とするシリカ粒子。シリカゾルを分散させた分散相液を、該分散相液と相溶性のない連続相液に、細孔を通過させて注入することによりエマルジョンを作製し、該エマルジョンから分散相を分離してケーキとし、分離することにより得られたケーキを、Ca、Y、LaおよびEuからなる群より選ばれる1種以上の元素を含む結晶化剤の共存下に、800°C以上1300°C以下の温度範囲で保持して焼成することを特徴とするシリカ粒子の製造方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
形状が球状であり、α石英、トリジマイトおよびクリストバライトからなる群より選ばれる2種以上の結晶形を有することを特徴とするシリカ粒子。
IPC (2)：
FI (2)：
C01B33/12 B
, C01B33/18 Z
4G072AA29
, 4G072AA30
, 4G072AA32
, 4G072AA35
, 4G072BB07
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH18
, 4G072JJ30
, 4G072KK09
, 4G072LL06
, 4G072LL15
, 4G072MM31
, 4G072MM36
, 4G072PP03
, 4G072UU07
Cited by applicant (1)
-
エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平11-364337
Applicant：信越化学工業株式会社
Cited by examiner (2)
-
微細な結晶質シリカの製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-035047
Applicant：富士化学株式会社
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研磨材
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平11-175226
Applicant：花王株式会社
Article cited by the Patent：
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