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J-GLOBAL ID:201803019886584634
還元剤およびそれを用いた金属の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (5):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 関根 宣夫
, 堂垣 泰雄
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2014266775
Publication number (International publication number):2016124824
Patent number:6329067
Application date: Dec. 26, 2014
Publication date: Jul. 11, 2016
Claim (excerpt):
【請求項1】 下記一般式で示される化合物からなる還元剤と標準酸化還元電位が-0.529V〜0.799Vである金属イオン源とを溶媒中で接触させる、金属(Si及びGeを除く)の粒子の製造方法。
(前記式中、X1およびX2は窒素原子であり、R1、R2、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ同一であるか又は異なって水素原子、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基又はtert-ブチル基である。)
IPC (2):
B22F 9/24 ( 200 6.01)
, C07F 7/10 ( 200 6.01)
FI (4):
B22F 9/24 Z
, B22F 9/24 B
, B22F 9/24 C
, C07F 7/10 T
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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オレフィンのオリゴメリゼーション触媒及びオレフィンのオリゴマー製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-045119
Applicant:住友化学株式会社
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オレフィンの三量化触媒およびその触媒を用いたオレフィンの三量化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-367247
Applicant:住友化学株式会社
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タングステン錯体、メタセシス反応用触媒および環状オレフィン開環重合体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2012-051276
Applicant:国立大学法人大阪大学, 日本ゼオン株式会社
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特許第917770号
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Cited by examiner (5)
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Article cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (7)
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Journal of the American Chemical Society, 20140305, 136(13), p.5161-5170
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Chemische Berichte, 1995, 128(8), p.745-50
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Organosilicon Chem., 1994, p.41-42
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Organosilicon Chem., 1994, p.41-42
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Journal of the American Chemical Society, 1983, 105(4), p.707-13
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Angewandte Chemie, 1984, 96(8), p.609-610
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Angewandte Chemie, 1984, 96(8), p.609-610
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