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J-GLOBAL ID：201902216622866396   Reference number：19A0900829

Resist-polymer ablation by mid-infrared-free-electron laser

中赤外自由電子レーザによるレジスト-高分子アブレーション【JST・京大機械翻訳】

Author (5)： Toriumi Minoru (Tokyo Univ. of Science (Japan)) ,  Kawasaki Takayasu (Tokyo Univ. of Science (Japan)) ,  Araki Mitsunori (Tokyo Univ. of Science (Japan)) ,  Imai Takayuki (Tokyo Univ. of Science (Japan)) ,  Tsukiyama Koichi (Tokyo Univ. of Science (Japan))
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 10586  Page： 1058613-8  Publication year： 2018 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Laser ablation of poly(4-hydro...

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Thesaurus term： wavelength ,  *macromolecule ,  vibrational excitation ,  *resist ,  vibration isolation ,  infrared spectrum ,  positive hole ,  film thickness ,  silicon ,  laser ablation ,  Photochemistry ,  *ablation ,  Si wafer ,  infrared free-electron laser
Semi thesaurus term： 高効率 , 【Automatic Indexing@JST】

JST classification (1)： Laser irradiation effects and damages  (BK16040S)

Terms in the title (4)： 赤外自由電子レーザ ,  レジスト ,  高分子 ,  アブレーション