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J-GLOBAL ID：201902233410623682   Reference number：19A2920411

Fabrication of textured substrates for dye-sensitized solar cells using polydimethylsiloxane nanoimprint lithography

ポリジメチルシロキサンナノインプリントリソグラフィーを用いた色素増感太陽電池のためのテクスチャ基板の作製【JST・京大機械翻訳】

Author (4)： Yang Na (Nagoya University, Graduate School of Engineering, Nagoya, Japan) ,  Oka Chiemi (Nagoya University, Graduate Department of Micro-Nano Mechanical Science and Engineering, Nagoya, Japan) ,  Hata Seiichi (Nagoya University, Graduate Department of Micro-Nano Mechanical Science and Engineering, Nagoya, Japan) ,  Sakurai Junpei (Nagoya University, Graduate Department of Micro-Nano Mechanical Science and Engineering, Nagoya, Japan)
Material： Advanced Optical Technologies
Volume： 8  Issue： 6  Page： 491-497  Publication year： 2019 
JST Material Number： W3762A  ISSN： 2192-8576  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Germany, Federal Republic of (DEU)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Abstract: We proposed a fabric...

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Thesaurus term： interface(surface) ,  hard ,  organization structure ,  *nanostructure ,  imprinting ,  duplicate ,  windshield
Semi thesaurus term： 変換効率 ,  ガラス基板 ,  二酸化チタン ,  FTO【酸化物】 ,  光学シミュレーション ,  透明導電性酸化物 ,  *色素増感太陽電池 ,  *ナノインプリントリソグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

Author keywords (4)： dye-sensitized solar cells ,  inner AR ,  polydimethylsiloxane nanoimprint lithography ,  textures

JST classification (1)： Solar cell  (NC03084O)

Terms in the title (5)： ポリジメチルシロキサン ,  ナノインプリントリソグラフィー ,  色素増感太陽電池 ,  テクスチャ ,  作製