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J-GLOBAL ID：201902237785616988   Reference number：19A2598039

ケルビンプローブフォース顕微鏡によるアルキルフタロシアニン塗布薄膜の界面物性評価

Author (5)： ISHIURA RYO (大阪大 大学院) ,  FUJII AKIHIKO (大阪大 大学院) ,  ARITA MAKOTO (九大 大学院) ,  SUDO KOICHI (大阪大 産科研) ,  OZAKI MASANORI (大阪大 大学院)
Material： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
Volume： 80th  Page： ROMBUNNO.18a-E302-9  Publication year： Sep. 04, 2019 
JST Material Number： Y0055B  ISSN： 2758-4704  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： atomic force microscope ,  *surface potential ,  *organic semiconductor ,  *semiconductor thin film ,  wafer ,  silicon ,  N-type semiconductor ,  film thickness ,  Kelvin probe force microscope ,  *phthalocyanine derivative ,  Si wafer

JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Electrical properties of interfaces in general  (BM03081H)

Terms in the title (4)： ケルビンプローブフォース顕微鏡 ,  薄膜 ,  界面物性 ,  評価