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J-GLOBAL ID：201902245655929118   Reference number：19A2619956

電子ビーム照射下におけるシリカガラスの構造変化解析

Author (3)： TADA KAZUHIRO (富山工高専) ,  HIBI KEITA (富山工高専) ,  YASUDA MASAAKI (大阪府大)
Material： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
Volume： 80th  Page： ROMBUNNO.20p-PB2-3  Publication year： Sep. 04, 2019 
JST Material Number： Y0055B  ISSN： 2758-4704  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： electron beam ,  *electron irradiation ,  *silica glass ,  nanostructure ,  silicon ,  Computer Simulation ,  atom-electron collision ,  variation ,  *nanodot ,  structural change ,  Molecular Dynamics Simulation ,  computer application ,  utilization
Semi thesaurus term： silica glass

JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Interactions with electrons and positrons in general  (BK16051U)

Terms in the title (3)： 電子ビーム照射 ,  シリカガラス ,  解析