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J-GLOBAL ID：201902250463643051   Reference number：19A1370162

ロックイン発熱解析法によるCVDグラフェン膜の移動度低減メカニズムに関する考察

Author (6)： NAKAJIMA HIDERO (産業技術総合研) ,  OKIGAWA YUKI (産業技術総合研) ,  MORIMOTO TAKAHIRO (産業技術総合研) ,  IKUTA YOSHITANE (産業技術総合研) ,  YAMADA TAKATOSHI (産業技術総合研) ,  OKAZAKI TOSHIYA (産業技術総合研)
Material： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
Volume： 66th  Page： ROMBUNNO.9p-W521-11  Publication year： Feb. 25, 2019 
JST Material Number： Y0054B  ISSN： 2436-7613  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： phenomenon ,  chemical vapor deposition ,  *graphene ,  *electronic structure ,  *transport phenomenon ,  electric conduction ,  carrier mobility ,  heat generation, pyrexia ,  band structure ,  *carrier transport ,  multilayer graphene ,  Dirac cone
Semi thesaurus term： lock-in ,  CVD

JST classification (2)： Electronic structure of crystalline semiconductors  (BM02060N) ,  Carbon and its compounds  (YB02060D)

Terms in the title (7)： ロックイン ,  発熱 ,  解析法 ,  CVD ,  グラフェン膜 ,  移動度 ,  メカニズム