近接気化型CVD法によるZnO膜の作製における原料気化の影響

NISHINO JUN'ICHI

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J-GLOBAL ID：201902265704092746 Reference number：19A0157451

近接気化型CVD法によるZnO膜の作製における原料気化の影響

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Volume： 31st Page： ROMBUNNO.3R09 Publication year： Aug. 27, 2018
JST Material Number： L2240B Document type： Proceedings
Article type：短報 Country of issue： Japan (JPN) Language： JAPANESE (JA)

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Oxide thin films

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