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J-GLOBAL ID：201902272921575350   Reference number：19A1375741

原子間力顕微鏡法における薄膜破壊プロセスの解析(II)

Author (10)： ISHIHARA HIROYUKI (大阪大 大学院) ,  ISHIHARA HIROYUKI (産業技術総合研) ,  WAKAYA FUJIO (大阪大 大学院) ,  MURAKAMI KATSUHISA (産業技術総合研) ,  NAGAO MASAYOSHI (産業技術総合研) ,  MIYATO YUJI (大阪大 大学院) ,  YAMASHITA HAYATO (大阪大 大学院) ,  YAMASHITA HAYATO (JST-さきがけ) ,  ABO SATOSHI (大阪大 大学院) ,  ABE MASAYUKI (大阪大 大学院)
Material： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
Volume： 66th  Page： ROMBUNNO.11p-M116-11  Publication year： Feb. 25, 2019 
JST Material Number： Y0054B  ISSN： 2436-7613  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *atomic force microscope ,  *thin film ,  *process ,  membrane and film ,  silicon dioxide ,  silicon nitride ,  graphene ,  *internal stress ,  Young's modulus ,  free standing film
Semi thesaurus term： *fracture process

JST classification (2)： Microscopy determination of structures  (BK01040E) ,  Material testing  (HB02020U)

Terms in the title (4)： 原子間力顕微鏡法 ,  薄膜 ,  破壊プロセス ,  解析