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J-GLOBAL ID：201903003786107549

試験用基材、及び試験用基材の製造方法

Inventor： 木下 忍 ,  井出 崇 ,  大山 智子 ,  田口 光正 ,  バーバ ビン ジェレマイア デュエナス
Applicant, Patent owner： 岩崎電気株式会社 ,  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
Agent (1)： 特許業務法人クシブチ国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2017113092
Publication number (International publication number)：2018202352
Application date： Jun. 08, 2017
Publication date： Dec. 27, 2018
Summary：

【課題】培養等の試験に用いて好適な試験用基材、及び当該試験用基材の製造方法の提供。【解決手段】ポリジメチルシロキサンの基材5の表面1Aに、水または水溶液を保持する溶液保持部2が形成された試験用基材1であって、溶液保持部2は、親水性の表層を有する凹状部であり、前記表層の最大厚みが1μm以上である試験用基材1。基材5に、電子線を照射し、水又は水溶液を保持する溶液保持部2を形成する電子線照射工程を備え、前記電子線照射工程では、溶液保持部2を形成する箇所に、親水性に改質された表層を有する凹状部が基材5の表面に形成される加速電圧で前記電子線を照射する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

ポリジメチルシロキサンの基材の表面に、水または水溶液を保持する溶液保持部が形成された試験用基材であって、 前記溶液保持部は、親水性の表層を有する凹状部であり、 前記表層の最大厚みが1μm以上である、ことを特徴とする試験用基材。

IPC (3)：

B01L 3/00 ,  C12M 3/00 ,  B01J 19/12

FI (4)：

B01L3/00 ,  C12M3/00 A ,  B01J19/12 C ,  B01J19/12 F

F-Term (17)：

4B029AA08 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC08 ,  4B029GA03 ,  4B029GB01 ,  4B029GB09 ,  4B029GB10 ,  4G057AB05 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075CA39 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB31

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 表面加工方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-537599   Applicant：学校法人東京理科大学

Cited by examiner (1)

• 表面加工方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-537599   Applicant：学校法人東京理科大学

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• Electron Beam-Induced Modification of Poly(dimethyl siloxane)
• 電子線照射によるポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)とポリジメチルシロキサン(PDMS)の接着剥離

Cited by examiner (2)

• Electron Beam-Induced Modification of Poly(dimethyl siloxane)
• 電子線照射によるポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)とポリジメチルシロキサン(PDMS)の接着剥離