Pat

J-GLOBAL ID：201903009842526990

光学装置の製造方法及び光学装置

Inventor： 元垣内 敦司 ,  平松 和政 ,  森下 雄太
Applicant, Patent owner： 国立大学法人三重大学
Agent (2)： 長谷川 芳樹 ,  小松 秀輝
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2015023247
Publication number (International publication number)：2015166861
Patent number：6534114
Application date： Feb. 09, 2015
Publication date： Sep. 24, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】 光入射部と、前記光入射部からの入射光を受光する受光面が前記入射光の進行方向と所定角度をもって交差するように配置された偏光素子とを備える光学装置の製造方法において、 前記偏光素子は、前記入射光に対して透明な基板と、前記基板上において所定の配列周期に基づいて形成された凸部と、前記凸部の上面に形成された第1の金属ワイヤ部と、前記凸部の間から露出した前記基板の表面に形成された第2の金属ワイヤ部と、を備え、 前記入射光の波長及び前記配列周期を利用して、前記偏光素子に発生する表面プラズモンの励起条件を得る励起条件取得工程と、 前記励起条件を利用して、前記入射光の進行方向と前記偏光素子の前記受光面とがなす前記所定角度を得る角度取得工程と、 前記受光面に対して前記入射光が前記所定角度で入射するように、前記光入射部と前記偏光素子とを配置する配置工程と、を有し、 前記励起条件取得工程は、 前記入射光の波長を利用して、入射光エネルギーを得る工程と、 前記配列周期を利用して、表面プラズモンの分散曲線を得る工程と、 前記入射光エネルギーと前記分散曲線とを利用して、前記分散曲線と前記入射光エネルギーとが一致する励起波数を表面プラズモンの励起条件として得る工程と、を含み、 前記角度取得工程は、 前記入射光の波長を利用して得られる前記入射光の波数と、前記励起波数とを利用して、前記入射光の波数の前記受光面に沿った成分が前記励起波数と等しくなる前記所定角度を算出する工程を含む、光学装置の製造方法。

IPC (2)：

G02B 5/30 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1335 ( 200 6.01)

FI (2)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/133 510

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 偏光波長分離素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-312416   Applicant：コニカミノルタホールディングス株式会社