Pat

J-GLOBAL ID：201903010550142161

遷移金属錯体を含有するブロック共重合体

Inventor： 野口 三紀子 ,  前田 治彦 ,  和泉 篤士 ,  谷尾 吉祥 ,  浅岡 定幸
Applicant, Patent owner： 住友ベークライト株式会社 ,  国立大学法人京都工芸繊維大学
Agent (1)： 特許業務法人池内アンドパートナーズ
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2015037155
Publication number (International publication number)：2016160277
Patent number：6524704
Application date： Feb. 26, 2015
Publication date： Sep. 05, 2016
Claim (excerpt)：

【請求項1】 親水性ポリマー成分と疎水性ポリマー成分とが連結部を介して結合したブロック共重合体であって、 前記親水性ポリマー成分が、ポリエチレンオキサイドを含み、 前記疎水性ポリマー成分が、メソゲン側鎖を有するポリ(メタ)アクリレートを含み、 前記連結部が、下記式(1)で表される構造を含む、 ブロック共重合体。 [式(1)において、Mは遷移金属であり、Xは単座配位子である。]

IPC (3)：

C08G 81/02 ( 200 6.01) ,  C08J 5/18 ( 200 6.01) ,  C09D 153/00 ( 200 6.01)

FI (3)：

C08G 81/02 ,  C08J 5/18 ,  C09D 153/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• ミクロ相分離構造膜、及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-227972   Applicant：国立大学法人東京工業大学, トヨタ自動車株式会社
• 組成物ならびにそれを用いたミクロ相分離構造膜およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2013-125184   Applicant：富士フイルム株式会社
• 配向の制御されたミクロ相分離構造膜の製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-133301   Applicant：独立行政法人科学技術振興機構
• ブロック共重合体、及びミクロ相分離構造膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-315420   Applicant：財団法人理工学振興会

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 高規則性ナノ相分離界面をテンプレートとしたレニウム錯体の位置選択的集積法の開発