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J-GLOBAL ID：201903011913292221

試験用基材、及び試験用基材の製造方法

Inventor： 木下 忍 ,  井出 崇 ,  大山 智子 ,  田口 光正 ,  バーバ ビン ジェレマイア デュエナス
Applicant, Patent owner： 岩崎電気株式会社 ,  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
Agent (1)： 特許業務法人クシブチ国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2017113092
Publication number (International publication number)：2018202352
Patent number：6524563
Application date： Jun. 08, 2017
Publication date： Dec. 27, 2018
Claim (excerpt)：

【請求項1】 ポリジメチルシロキサンの基材の表面に、水または水溶液を保持する溶液保持部が形成された試験用基材であって、 前記溶液保持部は、親水性の表層を有する凹状部であり、 前記凹状部の表層の水接触角が、前記基材の表面における非凹状部の水接触角と比較して小さく、かつ、前記凹状部の親水性の表層の最厚部の厚みが20μm以上である、ことを特徴とする試験用基材。

IPC (3)：

B01L 3/00 ( 200 6.01) ,  C12M 3/00 ( 200 6.01) ,  B01J 19/12 ( 200 6.01)

FI (4)：

B01L 3/00 ,  C12M 3/00 A ,  B01J 19/12 C ,  B01J 19/12 F

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 表面加工方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-537599   Applicant：学校法人東京理科大学

Cited by examiner (1)

• 表面加工方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-537599   Applicant：学校法人東京理科大学

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• Electron Beam-Induced Modification of Poly(dimethyl siloxane)
• 電子線照射によるポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)とポリジメチルシロキサン(PDMS)の接着剥離

Cited by examiner (2)

• Electron Beam-Induced Modification of Poly(dimethyl siloxane)
• 電子線照射によるポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)とポリジメチルシロキサン(PDMS)の接着剥離