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J-GLOBAL ID：201903016336600495

骨成長の促進特性を有する生体埋植材及びその製造方法

Inventor：
塩澤 茉由子

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桑江 博之

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水野 潤

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魚島 勝美

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秋葉 陽介

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Applicant, Patent owner：
学校法人早稲田大学

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Agent (7)： 牛木 護 ,  高橋 知之 ,  田中 淳二 ,  守屋 嘉高 ,  加藤 裕介 ,  齋藤 麻美 ,  中村 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2018096756
Publication number (International publication number)：2019201688
Application date： May. 21, 2018
Publication date： Nov. 28, 2019
Summary：
【課題】 生体に埋植後、細胞増殖性及びオッセオインテグレーションが向上した生体埋植材を安定して提供するための製造方法、及び、該生体埋植材を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明者らは、鋭意研究し、チタン又はチタン合金の表面にナノメートルオーターの微細構造を精密に形成する方法を確立し、該微細構造を有する生体埋植材を製造することに成功した。その結果、体液流によって細胞が流されることなく生体埋植材表面で、再現性よく、細胞増殖性と早期のオッセオインテグレーション成立をもたらすことが可能であることを見出し、本発明を完成させた。また、前記微細構造の凹面を粗面とすることで、さらなる細胞増殖性と早期オッセオインテグレーション成立をもたらすことを見出した。【選択図】図4
Claim (excerpt)：
基材の外表面に金属からなる被覆層を有する生体埋植材の製造方法であって、 前記被覆層は、ナノメートルオーダーの周期的微細構造パターンを有し、 a. 基板上にイオンビームスパッタ法により基材層を成膜する工程、 b. 前記基材層上にエッチングマスクとして、紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線硬化性樹脂層を形成する工程、 c. 紫外線ナノインプリト(UV-NIL)法により前記紫外線硬化性樹脂層に、レジストパターンを形成する工程、 d. 反応性イオンエッチング(RIE)法により前記レジストパターンに基づいたパターンを有する周期的微細構造パターンを前記基材層に形成する工程、 e. アッシングによりレジストパターンを除去する工程、及び、 f. 前記周期的微細構造パターンが形成された基材層上に、金属を含む被覆層を成膜する工程、 を含むことを特徴とする、製造方法。
IPC (4)：
A61C 8/00 ,  A61F 2/30 ,  A61F 2/44 ,  A61B 17/58
FI (4)：
A61C8/00 Z ,  A61F2/30 ,  A61F2/44 ,  A61B17/58
F-Term (12)：
4C097AA03 ,  4C097AA10 ,  4C097BB01 ,  4C097CC03 ,  4C097DD06 ,  4C097DD10 ,  4C097MM01 ,  4C159AA26 ,  4C159AA27 ,  4C159AA29 ,  4C159AA30 ,  4C160LL42
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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