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J-GLOBAL ID：201903019536534003

分離膜の製造方法

Inventor： 石川 真二 ,  俵山 博匡 ,  奥野 拓也 ,  斎藤 崇広 ,  近江 靖則 ,  上野 恭平
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社 ,  国立大学法人岐阜大学
Agent (1)： 特許業務法人 信栄特許事務所
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2018000849
Publication number (International publication number)：WO2018131707
Application date： Jan. 15, 2018
Publication date： Jul. 19, 2018
Summary：

無機酸化物多孔質基材上にゼオライト膜が形成された分離膜の製造方法であって、前記基材のゼオライト形成部分の主成分が非晶質SiO2であり、ゼオライトの種結晶、及び構造規定剤を含有するアルカリ成分を前記基材の表面に形成する第一工程と、前記第一工程で得られた形成体を加熱水蒸気雰囲気下で処理する第二工程と、を含み、前記基材表面にゼオライト膜を形成する、分離膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

無機酸化物多孔質基材上にゼオライト膜が形成された分離膜の製造方法であって、 前記基材のゼオライト形成部分の主成分が非晶質SiO2であり、 ゼオライトの種結晶、及び構造規定剤を含有するアルカリ成分を前記基材の表面に形成する第一工程と、 前記第一工程で得られた形成体を加熱水蒸気雰囲気下で処理する第二工程と、を含み、 前記基材表面にゼオライト膜を形成する、分離膜の製造方法。

IPC (4)：

B01D 69/12 ,  B01D 71/02 ,  B01D 69/10 ,  C01B 39/48

FI (4)：

B01D69/12 ,  B01D71/02 ,  B01D69/10 ,  C01B39/48

F-Term (47)：

4D006GA25 ,  4D006GA41 ,  4D006HA21 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MA31 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MB20 ,  4D006MC03X ,  4D006NA45 ,  4D006NA49 ,  4D006NA50 ,  4D006NA62 ,  4D006NA64 ,  4D006PA01 ,  4D006PA03 ,  4D006PB14 ,  4D006PB32 ,  4G073BA04 ,  4G073BA63 ,  4G073BB48 ,  4G073BD01 ,  4G073BD02 ,  4G073BD18 ,  4G073CZ41 ,  4G073FA12 ,  4G073FA15 ,  4G073FB11 ,  4G073FB30 ,  4G073FB36 ,  4G073FC03 ,  4G073FC12 ,  4G073FC19 ,  4G073FC25 ,  4G073FC26 ,  4G073FC27 ,  4G073FD12 ,  4G073FD20 ,  4G073FD21 ,  4G073FD24 ,  4G073GA03 ,  4G073GA11 ,  4G073GA40 ,  4G073GB02 ,  4G073UA06