Pat
J-GLOBAL ID:201903020198612921
過酸化水素製造方法、過酸化水素製造用キット並びにそれらに用いる有機高分子光触媒及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人三枝国際特許事務所
Gazette classification:再公表公報
Application number (International application number):JP2017037488
Publication number (International publication number):WO2018074456
Application date: Oct. 17, 2017
Publication date: Apr. 26, 2018
Summary:
本発明は、過酸化水素を従来よりも低コストで且つ効率的に製造できる過酸化水素製造方法及び過酸化水素製造用キットを提供する。 本発明は、具体的には、過酸化水素製造方法であって、(1)水、有機高分子光触媒及び酸素(O2)を含む反応系に光照射することにより過酸化水素を発生させる過酸化水素発生工程を含み、(2)前記有機高分子光触媒は、単環又は多環の芳香族化合物及び/又は単環又は多環の複素芳香族化合物が架橋基により連結された構造を有する有機高分子であり、(3)前記有機高分子のバンド構造は、伝導帯(CB)が酸素の二電子還元電位よりも卑な電位であり、価電子帯(VB)が水の四電子酸化電位よりも貴な電位である、ことを特徴とする過酸化水素製造方法を提供する。
Claim (excerpt):
過酸化水素製造方法であって、
(1)水、有機高分子光触媒及び酸素(O2)を含む反応系に光照射することにより過酸化水素を発生させる過酸化水素発生工程を含み、
(2)前記有機高分子光触媒は、単環又は多環の芳香族化合物及び/又は単環又は多環の複素芳香族化合物が架橋基により連結された構造を有する有機高分子であり、
(3)前記有機高分子のバンド構造は、伝導帯(CB)が酸素の二電子還元電位よりも卑な電位であり、価電子帯(VB)が水の四電子酸化電位よりも貴な電位である、
ことを特徴とする過酸化水素製造方法。
IPC (6):
C01B 15/027
, B01J 31/06
, B01J 35/02
, C08G 8/22
, C08L 61/12
, C08L 65/00
FI (6):
C01B15/027
, B01J31/06 M
, B01J35/02 J
, C08G8/22
, C08L61/12
, C08L65/00
F-Term (62):
4G169AA02
, 4G169AA08
, 4G169BA22A
, 4G169BA22B
, 4G169BA22C
, 4G169BA48A
, 4G169BD12B
, 4G169BE05A
, 4G169BE05B
, 4G169BE06A
, 4G169BE06B
, 4G169BE06C
, 4G169BE07A
, 4G169BE07B
, 4G169BE07C
, 4G169BE14A
, 4G169BE14B
, 4G169BE14C
, 4G169BE15A
, 4G169BE15B
, 4G169BE15C
, 4G169BE21B
, 4G169BE37A
, 4G169BE37B
, 4G169BE37C
, 4G169BE38B
, 4G169CB81
, 4G169CC31
, 4G169DA03
, 4G169EA01Y
, 4G169EC02Y
, 4G169ED02
, 4G169FA01
, 4G169FB05
, 4G169FB10
, 4G169FC02
, 4G169HA02
, 4G169HB10
, 4G169HD02
, 4G169HD03
, 4G169HD17
, 4G169HD20
, 4G169HE20
, 4G169HF03
, 4G169HF10
, 4J002CC06W
, 4J002CE00X
, 4J002GT00
, 4J033CA02
, 4J033CA09
, 4J033CA11
, 4J033CA12
, 4J033CA13
, 4J033CA28
, 4J033CB02
, 4J033CC02
, 4J033CC04
, 4J033CC11
, 4J033HA00
, 4J033HA10
, 4J033HA13
, 4J033HB00
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