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J-GLOBAL ID：202002223003020067   Reference number：20A0991985

Observation of ferromagnetic and metallic surface states in narrow gap semiconductor FeSi thin films

狭ギャップ半導体FeSi薄膜における表面強磁性金属状態の観測

Author (12)： OTSUKA YUSUKE (東大 工) ,  KANAZAWA NAOYA (東大 工) ,  HIRAYAMA MOTOAKI (理研 CEMS) ,  NOMOTO TAKUYA (東大 工) ,  ARITA RYOTARO (東大 工) ,  ARITA RYOTARO (理研 CEMS) ,  TSUKAZAKI ATSUSHI (東北大 金属材料研) ,  ICHIKAWA MASAKAZU (東大 工) ,  KAWASAKI MASAJI (東大 工) ,  KAWASAKI MASAJI (理研 CEMS) ,  TOKURA YOSHINORI (東大 工) ,  TOKURA YOSHINORI (理研 CEMS)
Material： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
Volume： 75  Issue： 1  Page： ROMBUNNO.17aD20-3  Publication year： Mar. 23, 2020 
JST Material Number： S0671C  ISSN： 2189-079X  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *compound semiconductor ,  *iron compound ,  *silicide ,  semiconductor thin film ,  *metal ,  sheet resistance ,  dependence ,  electric conduction ,  Wannier function ,  *ferromagnetic metal ,  film thickness dependence ,  surface conductance
Semi thesaurus term： *狭ギャップ半導体

JST classification (1)： Electric conduction in crystalline semiconductors  (BM03043X)

Terms in the title (3)： ギャップ ,  強磁性金属 ,  観測