Art

J-GLOBAL ID：202002225953505271   Reference number：20A0689327

Effect of Annealing Process on Microstructure and Electrical Properties of Platinum Films Grown by Magnetron Sputtering

マグネトロンスパッタリングによって成長したPt薄膜の微細構造と電気的性質に及ぼすアニーリングプロセスの影響について研究した。【JST・京大機械翻訳】

Author (6)： Wang Guojun (西安交通大学金属材料強度国家重点実験室,西安710049;西安交通大学蘇州研究院,蘇州215123) ,  Bai Yu (西安交通大学蘇州研究院,蘇州,215123) ,  Hu Shaojie (西安交通大学金属材料強度国家重点実験室,西安,710049) ,  Zhang Min (西安交通大学蘇州研究院,蘇州,215123) ,  Wang Shubei (西安交通大学蘇州研究院,蘇州,215123) ,  Wan Fei (西安交通大学蘇州研究院,蘇州,215123)
Material： Cailiao Daobao  (Materials Reports)
Volume： 33  Issue： z2  Page： 56-60  Publication year： 2019 
JST Material Number： C2126A  ISSN： 1005-023X  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： China (CHN)  Language： CHINESE (ZH)

Thesaurus term： crystallization ,  micro structure ,  sheet resistance ,  sensitivity ,  electrical resistivity ,  high temperature ,  oxygen ,  temperature sensor ,  *thin film ,  *platinum ,  *annealing(heat treatment) ,  *electrical property ,  magnetron sputtering ,  crystal grain ,  tantalum

JST classification (2)： Thin films in general  (BK14010X) ,  Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (9)： マグネトロンスパッタリング ,  成長 ,  Pt ,  薄膜 ,  微細構造 ,  電気的性質 ,  アニーリング ,  プロセス ,  研究