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J-GLOBAL ID：202002262322150521   Reference number：20A1088493

Bias Dependent Reactions of a Si(110) Substrate on Irradiation of Hydrogen Plasma

水素プラズマ照射によるシリコン(110)基板相互反応のバイアス依存性

Author (6)： TAKAMI Y. (Graduate School of Engineering. Nagasaki Univ.) ,  HARA K. (Graduate School of Sci. and Technol.) ,  TAKAKI Y. (Graduate School of Engineering. Nagasaki Univ.) ,  SHINOHARA M. (Graduate School of Engineering. Nagasaki Univ.) ,  MATSUDA Y. (Graduate School of Engineering. Nagasaki Univ.) ,  FUJIYAMA H. (Graduate School of Engineering. Nagasaki Univ.)
Material： プラズマ・核融合学会年会(Web)  (プラズマ・核融合学会年会予稿集(Web))
Volume： 28th  Page： ROMBUNNO.22P020-O (WEB ONLY)  Publication year： 2011 
JST Material Number： U1621A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (3)： 水素プラズマ ,  シリコン ,  バイアス依存性