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J-GLOBAL ID：202002264853282221   Reference number：20A0818768

Mapping of Metal/Semiconductor and Semiconductor/Semiconductor Interfaces Using Scanning Internal Photoemission Microscopy

走査型内部光電子顕微鏡を用いた金属/半導体および半導体/半導体界面のマッピング【JST・京大機械翻訳】

Author (1)： Shiojima Kenji (Graduate School of Electrical and Electronics Engineering, University of Fukui,Fukui,Japan)
Material： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conf Proc)
Volume： 2019  Issue： ICSJ  Page： 169-172  Publication year： 2019 
JST Material Number： W2441A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Scanning internal photoemissio...

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Thesaurus term： wide band ,  characterization ,  *interface(surface) ,  thermal decomposition ,  printing(graphic arts) ,  insulator ,  electrical property ,  grain boundary ,  output unit ,  photoemission ,  *semiconductor
Semi thesaurus term： 金属粒子 ,  電圧印加 ,  金属-半導体界面 ,  *光電子顕微鏡 , 【Automatic Indexing@JST】

JST classification (3)： Code theory  (ND02030R) ,  Special-purpose arithmetic and control units  (JC04030Y) ,  Speach processing  (JE05000E)

Terms in the title (4)： 走査型 ,  光電子顕微鏡 ,  界面 ,  マッピング