Art

J-GLOBAL ID：202002274369834906   Reference number：20A0993377

FIB-induced superconductivity in Si substrate surface

シリコン基板表面における集束イオンビーム誘起超伝導

Author (12)： MATSUMOTO RYO (物質・材料研究機構) ,  MATSUMOTO RYO (筑波大) ,  SADKI E. S. (UAE大) ,  YAMAMOTO SAYAKA (物質・材料研究機構) ,  YAMAMOTO SAYAKA (筑波大) ,  SAITO YOSHITO (物質・材料研究機構) ,  SAITO YOSHITO (筑波大) ,  ADACHI SHINTARO (物質・材料研究機構) ,  TANAKA HIROMI (米子工高専) ,  TAKEYA HIROYUKI (物質・材料研究機構) ,  TAKANO YOSHIHIKO (物質・材料研究機構) ,  TAKANO YOSHIHIKO (筑波大)
Material： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
Volume： 75  Issue： 1  Page： ROMBUNNO.19aB22-12  Publication year： Mar. 23, 2020 
JST Material Number： S0671C  ISSN： 2189-079X  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： wafer ,  *focused ion beam ,  etching ,  *fine patterning ,  circuit ,  *electric resistance ,  phase transition ,  Superconductivity ,  metastable phase ,  *selective etching ,  *superconducting circuit ,  superconducting transition ,  film deposition ,  micromachining process technology ,  *Si wafer
Semi thesaurus term： *silicon substrate

JST classification (3)： Materials of solid-state devices  (NC03020K) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Properties of superconductors in general  (BM04021A)

Terms in the title (5)： シリコン ,  基板表面 ,  集束イオンビーム ,  誘起 ,  超伝導