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J-GLOBAL ID：202003002274199527

排気ガス浄化触媒用デラフォサイト型酸化物及びこれを用いた排気ガス浄化触媒

Inventor： 加藤 純雄 ,  小笠原 正剛 ,  守屋 利春 ,  岩品 克哉 ,  岩倉 大典
Applicant, Patent owner： 国立大学法人秋田大学 ,  三井金属鉱業株式会社
Agent (1)： 特許業務法人竹内・市澤国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2018559151
Patent number：6715351
Application date： Dec. 22, 2017
Claim (excerpt)：

【請求項1】 一般式ABO2で示されるデラフォサイト型酸化物であって、前記一般式のAサイトにCu及びAgを含み、前記一般式のBサイトにMnのみを含むか、或いは、Mnと、Al、Cr及びGaからなる群から選択される1種又は2種以上の元素とを含み、且つ、前記一般式のAサイト中に0.001at.%以上20at.%未満の割合でAgを含むことを特徴とする排気ガス浄化触媒用デラフォサイト型酸化物。

IPC (4)：

B01J 23/89 ( 200 6.01) ,  C01G 37/00 ( 200 6.01) ,  C01G 45/00 ( 200 6.01) ,  B01D 53/94 ( 200 6.01)

FI (6)：

B01J 23/89 ZAB A ,  C01G 37/00 ,  C01G 45/00 ,  B01D 53/94 222 ,  B01D 53/94 245 ,  B01D 53/94 280

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• デラフォサイト型酸化物およびその製造方法並びに排気ガス浄化用触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-343526   Applicant：三井金属鉱業株式会社, 国立大学法人秋田大学
• 混合層積層不整結晶構造デラフォサイト型酸化物とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-051249   Applicant：科学技術振興事業団
• セラミックハニカム構造体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-065362   Applicant：株式会社デンソー

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Journal of the Physical Society of Japan, 20090113, Vol.78, 013604