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J-GLOBAL ID:202003006657261922

α-トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (8): 廣田 雅紀 ,  小澤 誠次 ,  東海 裕作 ,  松田 一弘 ,  堀内 真 ,  山内 正子 ,  園元 修一 ,  山村 昭裕
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2016031202
Publication number (International publication number):2017149652
Patent number:6632129
Application date: Feb. 22, 2016
Publication date: Aug. 31, 2017
Claim (excerpt):
【請求項1】 エノールトリフラート化合物にラジカル開始剤を作用させるα-トリフルオロメチルケトン化合物の製造方法であって、 エノールトリフラート化合物が、以下の式(1) (式中、R1は、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、-OR4、-NR5R5’、又は、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基と、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基及び置換基を有していてもよい複素環基からなる群から選択される少なくとも一つの基とが複合した基を表し、 R2及びR3は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、-COR6、又は、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基と、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基及び置換基を有していてもよい複素環基からなる群から選択される少なくとも一つの基とが複合した基を表し、 R4は、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、又は、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基と、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基及び置換基を有していてもよい複素環基からなる群から選択される少なくとも一つの基とが複合した基を表し、 R5及びR5’は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、又は、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基と、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基及び置換基を有していてもよい複素環基からなる群から選択される少なくとも一つの基とが複合した基を表し、 R6は、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、-OR4、又は、置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基と、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基及び置換基を有していてもよい複素環基からなる群から選択される少なくとも一つの基とが複合した基を表し、 R1と、R2又はR3とは、一緒になって、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、又は、置換基を有していてもよい複素環基を形成していてもよく、 R2とR3とは、一緒になって、置換基を有していてもよい環状脂肪族炭化水素基、又は、置換基を有していてもよい複素環基を形成していてもよい。)で表され、 α-トリフルオロメチルケトン化合物が、以下の式(2) (式中、R1、R2及びR3は、式(1)におけるR1、R2及びR3と同じ定義である。)で表されることを特徴とする製造方法。
IPC (6):
C07C 45/51 ( 200 6.01) ,  C07C 49/80 ( 200 6.01) ,  C07C 69/76 ( 200 6.01) ,  C07C 67/313 ( 200 6.01) ,  C07F 5/02 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (6):
C07C 45/51 ,  C07C 49/80 ,  C07C 69/76 Z ,  C07C 67/313 ,  C07F 5/02 A ,  C07B 61/00 300
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
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