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J-GLOBAL ID：202003011188656248

置換されたオレフィン化合物の製造方法

Inventor： 生越 專介 ,  大橋 理人 ,  菊嶌 孝太郎 ,  足達 健二 ,  神原 將
Applicant, Patent owner： ダイキン工業株式会社 ,  国立大学法人大阪大学
Agent (1)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2015183497
Publication number (International publication number)：2017057167
Patent number：6629020
Application date： Sep. 16, 2015
Publication date： Mar. 23, 2017
Claim (excerpt)：

【請求項1】式(1): [式中、 R1、R2およびR3は、同一または異なって、(a)水素原子、(b)ハロゲン原子または(c)1個以上のフッ素原子で置換されていてもよい非環式炭化水素基を表し、 RXは、-BX2、または-SiX3を表し、および Xは、各出現において同一または異なって、(a)アルキル基、(b)アルケニル基、(c)アルキニル基、(d)シクロアルキル基、(e)シクロアルケニル基、(f)シクロアルカジエニル基、(g)アリール基、(h)アラルキル基または(i)アルコキシ基を表すか、 -BX2は、次の基: のいずれかを形成していてもよく、あるいは -SiX3は、次の基: を形成していてもよい。] で表される化合物の製造方法であって、 式(2): [式中の記号は前記と同意義を表す。] で表される化合物を、 式(3): [式中、 Y1およびY2は、同一または異なって、(a)アルコキシ基を表すか、あるいは Y1およびY2は、これらが隣接するホウ素原子と一緒になって、次の基: のいずれかを形成していてもよく、および その他の記号は前記と同意義を表す。] で表される化合物と反応させる工程Aを含み、且つ 当該工程Aの反応は、銅を含有する遷移金属触媒の存在下で実施される、製造方法。

IPC (3)：

C07F 5/02 ( 200 6.01) ,  C07F 7/12 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (3)：

C07F 5/02 C ,  C07F 7/12 D ,  C07B 61/00 300

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 有機ホウ素化合物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2014-095207   Applicant：国立大学法人北海道大学

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• Journal of Fluorine Chemistry, 2004, 125(3), p.377-380
• Journal of Fluorine Chemistry, 2003, 121(1), p.75-77