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J-GLOBAL ID：202003013161381843

分離膜及びその製造方法

Inventor： 都留 稔了 ,  金指 正言 ,  長澤 寛規
Applicant, Patent owner： 国立大学法人広島大学
Agent (1)： 森 匡輝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2018206836
Publication number (International publication number)：2020069453
Application date： Nov. 01, 2018
Publication date： May. 07, 2020
Summary：

【課題】熱安定性の高い分離膜を提供する。【解決手段】分離膜は、多孔質基材の支持体と、Tiを含む炭化ケイ素系膜からなる分離層と、を備える。また、分離層は、焼成されたポリチタノカルボシランを含む。分離層が、Tiを含むことにより、熱安定性の高い分離膜を得ることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

多孔質基材の支持体と、 Tiを含む炭化ケイ素系膜からなる分離層と、を備える、 ことを特徴とする分離膜。

IPC (5)：

B01D 71/02 ,  B01D 69/12 ,  B01D 69/10 ,  C04B 41/89 ,  C04B 41/85

FI (6)：

B01D71/02 ,  B01D69/12 ,  B01D69/10 ,  C04B41/89 A ,  C04B41/89 K ,  C04B41/85 C

F-Term (17)：

4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA09 ,  4D006MA21 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MB11 ,  4D006MB15 ,  4D006MB16 ,  4D006MC03 ,  4D006MC09X ,  4D006MC65X ,  4D006NA39 ,  4D006NA45 ,  4D006PA01 ,  4D006PB66 ,  4D006PB70

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 流体分離フィルタ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-016702   Applicant：京セラ株式会社
• ガス分離フィルタ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-050889   Applicant：国立大学法人広島大学