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J-GLOBAL ID：200903013548845653

流体分離フィルタ及びその製造方法

Inventor： 高坂 祥二 ,  佐郷 文昭
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004016702
Publication number (International publication number)：2005095851
Application date： Jan. 26, 2004
Publication date： Apr. 14, 2005
Summary：

【課題】水分に対して化学的に安定で、分離特性に対する耐水性に優れた流体分離フィルタを提供する。【解決手段】多孔質支持体表面に、Si-C-O結合を含有する流体分離膜を被着形成してなること、また、多孔質支持体表面に、Si-C-O結合を含有する流体分離膜を被着形成してなることを特徴とし、特に前記流体分離膜の厚みが、0.05μm〜1μmであることが好ましい。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

多孔質支持体表面に、Si-C結合を含有する流体分離膜を被着形成してなることを特徴とする流体分離フィルタ。

IPC (6)：

B01D71/02 ,  B01D69/12 ,  B01D71/70 ,  C04B41/85 ,  C04B41/87 ,  C04B41/89

FI (7)：

B01D71/02 ,  B01D69/12 ,  B01D71/70 ,  C04B41/85 B ,  C04B41/85 C ,  C04B41/87 A ,  C04B41/89 A

F-Term (19)：

4D006MA02 ,  4D006MA06 ,  4D006MA10 ,  4D006MA31 ,  4D006MC03X ,  4D006MC65X ,  4D006NA39 ,  4D006NA46 ,  4D006NA63 ,  4D006PB13 ,  4D006PB18 ,  4D006PB19 ,  4D006PB62 ,  4D006PB64 ,  4D006PB66 ,  4D006PB70 ,  4D006PC11 ,  4D006PC41 ,  4D006PC80

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 多孔質分離膜及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-057542   Applicant：京セラ株式会社

Cited by examiner (3)

• 流体分離フィルタ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-234010   Applicant：京セラ株式会社
• ガス分離膜およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-092192   Applicant：京セラ株式会社
• 特開昭58-055004
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 非晶質Si-C-O薄膜による高温気体分離