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J-GLOBAL ID：202003019340418910

成膜装置及び成膜方法

Inventor：
渡部 武紀

About 渡部 武紀

, 
橋上 洋

About 橋上 洋


Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

About 信越化学工業株式会社


Agent (2)： 好宮 幹夫 ,  小林 俊弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2018122695
Publication number (International publication number)：2020002426
Application date： Jun. 28, 2018
Publication date： Jan. 09, 2020
Summary：
【課題】 成膜速度に優れミストCVD法が適用可能な成膜装置、及び、成膜速度に優れた成膜方法を提供することを目的とする。【解決手段】 原料溶液をミスト化してミストを発生させるミスト化部と、前記ミストを搬送するキャリアガスを供給するキャリアガス供給部と、前記ミストを熱処理して基体上に成膜を行う成膜部と、前記ミスト化部と前記成膜部とを接続し、前記キャリアガスによって前記ミストが搬送される搬送部と、前記搬送部の少なくとも一部を加熱する搬送部加熱手段とを有する成膜装置。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
成膜装置であって、 原料溶液をミスト化してミストを発生させるミスト化部と、 前記ミストを搬送するキャリアガスを供給するキャリアガス供給部と、 前記ミストを熱処理して基体上に成膜を行う成膜部と、 前記ミスト化部と前記成膜部とを接続し、前記キャリアガスによって前記ミストが搬送される搬送部と、 前記搬送部の少なくとも一部を加熱する搬送部加熱手段とを有することを特徴とする成膜装置。
IPC (4)：
C23C 16/448 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/365 ,  H01L 21/368
FI (4)：
C23C16/448 ,  C23C16/455 ,  H01L21/365 ,  H01L21/368 Z
F-Term (37)：
4K030AA02 ,  4K030AA14 ,  4K030BA08 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA01 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030JA10 ,  4K030KA25 ,  5F045AA03 ,  5F045AB40 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AD05 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AE29 ,  5F045AF09 ,  5F045BB09 ,  5F045DP02 ,  5F045DP03 ,  5F045EC09 ,  5F045EE02 ,  5F045EK06 ,  5F053AA50 ,  5F053BB58 ,  5F053DD20 ,  5F053FF01 ,  5F053KK01 ,  5F053KK02 ,  5F053KK10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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