Pat
J-GLOBAL ID：202003020882352727
過酸化水素製造方法、過酸化水素製造用キット並びにそれらに用いる有機高分子光触媒及びその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
特許業務法人三枝国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2018546348
Patent number：6765132
Application date： Oct. 17, 2017
Claim (excerpt)：
【請求項1】 過酸化水素製造方法であって、
(1)水、有機高分子光触媒及び酸素(O2)を含むpHが2〜10である反応系に光照射することにより過酸化水素を発生させる過酸化水素発生工程を含み、
(2)前記有機高分子光触媒は、単環の芳香族化合物が架橋基により連結された構造を有する有機高分子であり、前記芳香族化合物は、レゾルシノール、m-アミノフェノール、m-クロロフェノール、m-メトキシフェノール、m-クレゾール、m-フェニレンジアミン及びフェノールからなる群から選択される少なくとも一種であり、
(3)前記有機高分子のバンド構造は、pHが2〜10において、伝導帯(CB)が酸素の二電子還元電位よりも卑な電位であり、価電子帯(VB)が水の四電子酸化電位よりも貴な電位である、
ことを特徴とする過酸化水素製造方法。
IPC (6)：
C01B 15/027 ( 200 6.01)
, B01J 31/06 ( 200 6.01)
, B01J 35/02 ( 200 6.01)
, C08G 8/22 ( 200 6.01)
, C08L 61/12 ( 200 6.01)
, C08L 65/00 ( 200 6.01)
C01B 15/027
, B01J 31/06 M
, B01J 35/02 J
, C08G 8/22
, C08L 61/12
, C08L 65/00
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Journal of Materials Chemistry A, 2015, Vol.3, pp.15413-15419
-
電気化学便覧, 19850125, 第4版, pp.76-79, 115-117
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Angew. Chem. Int. Ed., 2011, Vol.50, pp.5947-5951
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Cited by examiner (6)
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Journal of Materials Chemistry A, 2015, Vol.3, pp.15413-15419
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電気化学便覧, 19850125, 第4版, pp.76-79, 115-117
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Angew. Chem. Int. Ed., 2011, Vol.50, pp.5947-5951
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