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J-GLOBAL ID：202102232450951525   Reference number：21A0332131

Influences of Cr Underlayer, Growth Temperature, and Composition on the Formation of L1₀ Ordered Phase in Mn-Al Alloy Thin Film

Mn-Al合金薄膜のL1₀規則相形成に及ぼすCr下地層,成長温度,組成の影響

Author (7)： NAKANO KOTARO (横浜国大 大学院工学研究院) ,  NORO SHOTA (横浜国大 大学院工学研究院) ,  OTAKE MITSURU (横浜国大 大学院工学研究院) ,  FUTAMOTO MASAAKI (横浜国大 大学院工学研究院) ,  KAWAI TETSURO (横浜国大 大学院工学研究院) ,  KIRINO FUMIYOSHI (東京藝術大 大学院美術研究科) ,  INABA NOBUYUKI (山形大 大学院理工学研究科)
Material： 電子情報通信学会技術研究報告(Web)  (IEICE Technical Report (Web))
Volume： 120  Issue： 274(MRIS2020 5-10)  Page： 1-5 (WEB ONLY)  Publication year： Nov. 26, 2020 
JST Material Number： U2030A  ISSN： 2432-6380  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： aluminum base alloy ,  manganese base alloy ,  metallic thin film ,  epitaxy ,  single crystal ,  *magnetoresistive random access memory ,  *hard magnetic material ,  alloy thin film
Semi thesaurus term： epitaxial growth ,  *magnetoresistive random access memory

JST classification (1)： Magnetic materials  (NA04040H)

Reference (22)：

• A. Sakuma: J. Phys. Soc. Jpn., vol. 63, pp. 1422-1428 (1994).
• J. H. Park, Y. K. Hong, S. Bae, J. J. Lee, J. Jalli, G. S. Abo, N. Neveu, S. G. Kim, C. J. Choi, and J. G. Lee: J. Appl. Phys., vol. 107, pp. 09A731_1-3 (2010).
• M. Hosoda, M. Oogane, M. Kubota, T. Kubota, H. Saruyama, S. Iihama, H. Naganuma, and Y. Ando: J. Appl. Phys., vol. 111, pp. 07A324_1-3 (2012).
• S. -W. Mao, J. Lu, L. Yang, X. -Z. Ruan, H. -L. Wang, D. -H. Wei, Y. -B. Xu, and J. -H. Zhao: Chinese Phys. Lett., vol. 37, pp. 058501_1-5 (2020).
• T. B. Massalski and H. Okamoto: Binary Alloy Phase Diagrams (ASM International, Ohio, 1990).

Terms in the title (8)： Mn ,  Al ,  合金薄膜 ,  規則相 ,  Cr ,  下地層 ,  成長温度 ,  組成