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J-GLOBAL ID：202102275083787443   Reference number：21A0470052

多孔質基板を用いたレーザー局所加熱法によるガラスの非接触成形技術の開発

Author (1)： KISHI TETSUO (東京工大 物質理工学院)
Material： 天田財団助成研究成果報告書  (Report of Grant-Supported Researches the Amada Foundation)
Volume： 33  Page： 365-368  Publication year： Dec. 2020 
JST Material Number： J0694A  ISSN： 2434-0723  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： Glass ,  manufacturing ,  microsphere ,  *laser heating ,  heating ,  substrate (plate) ,  porous medium ,  water vapor ,  in situ observation ,  semiconductor laser ,  laser irradiation ,  *glass manufacture ,  alumina substrate ,  local heating
Semi thesaurus term： microsphere ,  *noncontact ,  非接触成形 ,  local-heating ,  レーザー局所加熱法 ,  laser diode

JST classification (1)： Manufacturing of glass  (YC02020O)

Reference (11)：

• 1) A. Masuno, H. Inoue, J. Yu, and Y. Arai, J. Appl.Phys., 108, 1-5 (2010).
• 2) G. A. Rosales-Sosa, A. Masuno, Y. Higo, H. Inoue, Y.Yanaba, T. Mizoguchi, T. Umada, K. Okamura, K.Kato, and Y. Watanabe, Sci. Rep., 5, 15233 (2015).
• 3) Y. Shimotsuma, K. Hirao, J. Qiu, and K. Miura, J.Non. Cryst. Solids, 352, 646-656 (2006).
• 4) T. Komatsu, J. Non. Cryst. Solids, 428, 156-175(2015).
• 5) T. Kishi, T. Kumagai, T. Yano, and S. Shibata, AIPAdv., 2, 042169-1-5 (2012).

Terms in the title (6)： 多孔質 ,  レーザー ,  局所加熱 ,  ガラス ,  非接触 ,  開発