微細加工された酸化物の膜の形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大谷嘉一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2019141853
Publication number (International publication number)：2021026062
Application date： Aug. 01, 2019
Publication date： Feb. 22, 2021
Summary：

【課題】所定の微細形状又はパターニングされた状態に成膜できる酸化物の膜の形成方法の提供を目的とする。【解決手段】基板の表面にフォトレジスト材料を用いて所定の微細形状又はパターニングされたフォトレジスト層を形成するステップと、前記表面にa-CaO膜を形成するステップと、次に溶剤に浸漬し前記フォトレジスト層を有する部分を除去するステップと、次に前記表面に酸化物の膜を成長させるステップと、次に水に浸漬して前記a-CaO膜を有する部分を除去するステップとを有することを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板の表面にフォトレジスト材料を用いて所定の微細形状又はパターニングされたフォトレジスト層を形成するステップと、前記表面にa-CaO膜を形成するステップと、次に溶剤に浸漬し前記フォトレジスト層を有する部分を除去するステップと、次に前記表面に酸化物の膜を成長させるステップと、次に水に浸漬して前記a-CaO膜を有する部分を除去するステップとを有することを特徴とする微細加工された酸化物の膜の形成方法。

IPC (4)：

G03F 7/26 , H01L 21/306 , H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (4)：

G03F7/26 513 , H01L21/306 N , H01L21/30 576 , G03F7/20 501

F-Term (8)：

2H196AA25 , 2H196AA27 , 2H196HA28 , 2H197JA15 , 5F043AA07 , 5F043BB25 , 5F043DD18 , 5F146MA02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

部位により配向性が異なる酸化物超電導薄膜の作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-059512 Applicant：住友電気工業株式会社
特開平4-307772

Cited by examiner (2)

部位により配向性が異なる酸化物超電導薄膜の作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-059512 Applicant：住友電気工業株式会社
特開平4-307772

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