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J-GLOBAL ID：202103003241087638

偏光膜の製造方法、光学素子及び液晶素子

Inventor： 村上 拓也 ,  石毛 亮平 ,  安藤 慎治
Applicant, Patent owner： JSR株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
Agent (3)： 山田 強 ,  廣田 美穂 ,  日野 京子
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2019040024
Publication number (International publication number)：WO2020121640
Application date： Oct. 10, 2019
Publication date： Jun. 18, 2020
Summary：

優れた偏光特性を示す偏光膜を簡易な塗布プロセスによって製造することができる偏光膜の製造方法を提供する。重合体と水とを含有しリオトロピック液晶性を示す組成物を、液晶相の状態で基材上に塗布することにより、重合体が配向した有機膜を形成する形成工程と、当該形成工程により得られ且つ金属イオンを含有する有機膜中において金属イオンを還元する還元工程と、を含む方法により偏光膜を製造する。

Claim (excerpt)：

重合体と水とを含有しリオトロピック液晶性を示す組成物を、液晶相の状態で基材上に塗布することにより、前記重合体が配向した有機膜を形成する形成工程と、 前記形成工程により得られ且つ金属イオンを含有する有機膜中において金属イオンを還元する還元工程と、 を含む、偏光膜の製造方法。

IPC (3)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/133 ,  C08G 73/10

FI (3)：

G02B5/30 ,  G02F1/1335 510 ,  C08G73/10

F-Term (46)：

2H149AA02 ,  2H149AB26 ,  2H149BA02 ,  2H149BB26 ,  2H149FA15W ,  2H149FA21W ,  2H149FA25W ,  2H149FA35W ,  2H149FA41W ,  2H291FA22X ,  2H291FA22Y ,  2H291FA22Z ,  2H291FB05 ,  2H291FB22 ,  2H291FB23 ,  2H291FC32 ,  2H291FC33 ,  2H291LA04 ,  2H291LA13 ,  4J043RA35 ,  4J043SA06 ,  4J043SA82 ,  4J043SB01 ,  4J043SB03 ,  4J043TA22 ,  4J043TB01 ,  4J043TB03 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UA662 ,  4J043UA672 ,  4J043UB401 ,  4J043UB402 ,  4J043XA03 ,  4J043XA17 ,  4J043XB19 ,  4J043YA07 ,  4J043ZA09 ,  4J043ZA52 ,  4J043ZA55 ,  4J043ZA60 ,  4J043ZB21 ,  4J043ZB23 ,  4J043ZB60