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J-GLOBAL ID:202103004422284610

受光素子、撮像素子及び撮像装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人平木国際特許事務所
Gazette classification:再公表公報
Application number (International application number):JP2019022169
Publication number (International publication number):WO2019239962
Application date: Jun. 04, 2019
Publication date: Dec. 19, 2019
Summary:
この受光素子は、基板と、基板に配置されInGaAsを含む光吸収層とを備える。InGaAsにおけるAsの組成比が50at%の場合、InGaAsにおけるInとGaとの組成比(at%)は30.8:19.2である。
Claim (excerpt):
基板と、 前記基板に配置され、InGaAsを含む光吸収層と を備え、 前記InGaAsにおけるAsの組成比が50at%の場合、前記InGaAsにおけるInとGaとの組成比(at%)は30.8:19.2である 受光素子。
IPC (5):
H01L 31/10 ,  H01L 31/026 ,  H01L 27/146 ,  H04N 5/33 ,  H04N 5/369
FI (5):
H01L31/10 A ,  H01L31/08 N ,  H01L27/146 A ,  H04N5/33 ,  H04N5/369
F-Term (28):
4M118AA10 ,  4M118AB01 ,  4M118BA10 ,  4M118BA14 ,  4M118CA02 ,  4M118CB01 ,  4M118FA06 ,  4M118GA08 ,  4M118GD14 ,  5C024AX06 ,  5C024CX41 ,  5C024GX02 ,  5C024GY01 ,  5C024GY31 ,  5F849AA01 ,  5F849AB07 ,  5F849BA01 ,  5F849BA09 ,  5F849BB03 ,  5F849BB08 ,  5F849CB04 ,  5F849DA35 ,  5F849EA04 ,  5F849GA06 ,  5F849LA01 ,  5F849XB18 ,  5F849XB24 ,  5F849XB34

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