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J-GLOBAL ID:202103004422284610
受光素子、撮像素子及び撮像装置
Inventor:
,
,
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
特許業務法人平木国際特許事務所
Gazette classification:再公表公報
Application number (International application number):JP2019022169
Publication number (International publication number):WO2019239962
Application date: Jun. 04, 2019
Publication date: Dec. 19, 2019
Summary:
この受光素子は、基板と、基板に配置されInGaAsを含む光吸収層とを備える。InGaAsにおけるAsの組成比が50at%の場合、InGaAsにおけるInとGaとの組成比(at%)は30.8:19.2である。
Claim (excerpt):
基板と、
前記基板に配置され、InGaAsを含む光吸収層と
を備え、
前記InGaAsにおけるAsの組成比が50at%の場合、前記InGaAsにおけるInとGaとの組成比(at%)は30.8:19.2である
受光素子。
IPC (5):
H01L 31/10
, H01L 31/026
, H01L 27/146
, H04N 5/33
, H04N 5/369
FI (5):
H01L31/10 A
, H01L31/08 N
, H01L27/146 A
, H04N5/33
, H04N5/369
F-Term (28):
4M118AA10
, 4M118AB01
, 4M118BA10
, 4M118BA14
, 4M118CA02
, 4M118CB01
, 4M118FA06
, 4M118GA08
, 4M118GD14
, 5C024AX06
, 5C024CX41
, 5C024GX02
, 5C024GY01
, 5C024GY31
, 5F849AA01
, 5F849AB07
, 5F849BA01
, 5F849BA09
, 5F849BB03
, 5F849BB08
, 5F849CB04
, 5F849DA35
, 5F849EA04
, 5F849GA06
, 5F849LA01
, 5F849XB18
, 5F849XB24
, 5F849XB34
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