マイクロ波プラズマ処理装置

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：曾我道治 , 梶並順 , 大宅一宏 , 上田俊一 , 吉田潤一郎
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2020018407
Publication number (International publication number)：WO2021131097
Application date： May. 01, 2020
Publication date： Jul. 01, 2021
Summary：

マイクロ波プラズマ処理装置は、容器、マイクロ波供給部、及び制御部を備えている。マイクロ波供給部は、容器内に複数のマイクロ波を供給する。制御部は、容器内に供給される複数のマイクロ波の位相及び振幅をそれぞれ制御する。これにより、容器内に生成されるプラズマを、容器内に発生する化学活性種の寿命に基づいて設定された周期で、周期的に移動させる。

Claim (excerpt)：

容器、前記容器内に複数のマイクロ波を供給するマイクロ波供給部、及び、前記容器内に供給される前記複数のマイクロ波の位相を制御することによって、前記容器内に生成されるプラズマを、前記容器内に発生する化学活性種の寿命に基づいて設定された周期で、周期的に移動させる制御部を備えているマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (7)：

H01L 21/31 , H01L 21/306 , H05H 1/46 , C23C 16/511 , C23C 16/27 , C30B 25/02 , C30B 29/04

FI (9)：

H01L21/31 C , H01L21/302 101D , H05H1/46 B , H05H1/46 C , C23C16/511 , C23C16/27 , C30B25/02 P , C30B29/04 D , C30B29/04 F

F-Term (82)：

2G084AA05 , 2G084BB13 , 2G084CC14 , 2G084CC15 , 2G084CC33 , 2G084DD04 , 2G084DD25 , 2G084DD42 , 2G084DD44 , 2G084DD48 , 2G084DD61 , 2G084FF26 , 2G084FF28 , 2G084FF29 , 2G084HH02 , 2G084HH06 , 2G084HH07 , 2G084HH21 , 2G084HH27 , 2G084HH28 , 2G084HH30 , 4G077AA03 , 4G077BA03 , 4G077DB07 , 4G077DB19 , 4G077DB20 , 4G077EB01 , 4G077EG20 , 4G077EJ02 , 4G077HA12 , 4G077TA04 , 4G077TB02 , 4G077TB07 , 4G077TC02 , 4G077TE02 , 4G077UA03 , 4K030AA10 , 4K030AA14 , 4K030AA17 , 4K030AA20 , 4K030BA28 , 4K030BB02 , 4K030BB03 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030DA02 , 4K030FA01 , 4K030FA02 , 4K030GA02 , 4K030JA02 , 4K030JA09 , 4K030JA10 , 4K030JA11 , 4K030JA13 , 4K030JA15 , 4K030JA16 , 4K030JA19 , 4K030KA30 , 4K030KA34 , 4K030KA41 , 4K030KA46 , 4K030LA15 , 5F004AA16 , 5F004BA04 , 5F004BB14 , 5F004BD04 , 5F045AA09 , 5F045AB07 , 5F045AC08 , 5F045AC11 , 5F045AC15 , 5F045AC16 , 5F045AC19 , 5F045AF02 , 5F045AF03 , 5F045AF04 , 5F045AF07 , 5F045DP04 , 5F045EH02 , 5F045EH03 , 5F045EH17 , 5F045EH19

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