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J-GLOBAL ID：202103008334195696

ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物、それを用いた部材の製造方法、パターン形成方法及び反転パターンの形成方法

Inventor： 榎本 智至 ,  古澤 孝弘 ,  町田 康平 ,  内藤 倫哉
Applicant, Patent owner： 東洋合成工業株式会社 ,  国立大学法人大阪大学
Agent (3)： SK特許業務法人 ,  奥野 彰彦 ,  伊藤 寛之
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2019047919
Publication number (International publication number)：WO2020170555
Application date： Dec. 06, 2019
Publication date： Aug. 27, 2020
Summary：

粒子及び光子エネルギーの高い粒子線又は電磁波の照射により形成するパターニングにおいて、エネルギー付与密度が低下することで生じる感度の低下とパターンラフネスの悪化の影響を緩和し、吸収効率が大きく、感度、解像度及びパターン性能の特性に優れたレジスト組成物に用いられるポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物、並びに、それらを用いた部材の製造方法を提供する。 粒子線又は電磁波等の照射により分解してイオン性から非イオン性となる事で生じる極性変換に加えて、同時にラジカルと酸を発生するオニウム塩構造のユニットAと、酸触媒反応により結合する構造を有するユニットBと、を含むポリマーとする。前記ユニットBは、下記一般式(I)又は(II)で示される化合物が該化合物のいずれかの位置で下記式(1)のSp基と結合したユニットであることが好ましい。【化1】

Claim (excerpt)：

オニウム塩構造を有し、粒子線又は電磁波の照射により第1ラジカルを発生するユニットAと、 酸触媒反応により結合する構造を有するユニットBと、を含むポリマー。

IPC (8)：

C08F 220/38 ,  C08F 230/04 ,  C08F 220/30 ,  C08F 212/14 ,  G03F 7/20 ,  G03F 7/40 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/038

FI (8)：

C08F220/38 ,  C08F230/04 ,  C08F220/30 ,  C08F212/14 ,  G03F7/20 521 ,  G03F7/40 511 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601

F-Term (59)：

2H196AA25 ,  2H196EA06 ,  2H196EA07 ,  2H196HA34 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CE01 ,  2H197GA01 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H225AF39P ,  2H225AF42P ,  2H225AF71P ,  2H225AF99P ,  2H225AM12P ,  2H225AM13P ,  2H225AM14P ,  2H225AM22P ,  2H225AM29P ,  2H225AM38P ,  2H225AM91P ,  2H225AM94P ,  2H225AM99P ,  2H225AN42P ,  2H225AN54P ,  2H225AN57P ,  2H225BA02P ,  2H225BA11P ,  2H225BA26P ,  2H225CA12 ,  2H225CB14 ,  2H225CB18 ,  2H225CC01 ,  2H225CC17 ,  2H225CC20 ,  2H225CD06 ,  4J100AB07S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AM21P ,  4J100BA02R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA05Q ,  4J100BA05R ,  4J100BA12R ,  4J100BA14R ,  4J100BA50P ,  4J100BA93S ,  4J100BA94S ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC43S ,  4J100BC83P ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38