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J-GLOBAL ID：202103011614710201
二酸化炭素の水素化に用いる触媒、ギ酸製造方法、水素の貯蔵方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2017104867
Publication number (International publication number)：2018199103
Patent number：6890320
Application date： May. 26, 2017
Publication date： Dec. 20, 2018
Claim (excerpt)：
【請求項1】 一般式(1)で表され、二座配位子(X1-X2-C(=Z)-N-T)のX1と窒素(N)で配位した金属錯体、その異性体、または塩を有効成分として含む、二酸化炭素の水素化によるギ酸および/またはギ酸塩を製造するための触媒。
一般式(1)において、
Mは、イリジウム、ロジウムまたはルテニウムであり、
Lは、芳香族性アニオン配位子、または芳香族性配位子であり、置換基を有している場合は、前記置換基は1つでも複数でも良く、
Jは、任意の配位子であるか、または存在せず、
Xi(iは、1または2)は、窒素、酸素、硫黄、炭素のいずれかであり、Xiが窒素の場合は単結合で結合した置換基Qiを有しても良く、Xiが炭素の場合は単結合または二重結合で結合された置換基Qiを有しても良く、
X1 とX2は単結合または二重結合で結合し、
Qi(iは1または2)は、Xiと単結合で結合する場合、水素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、オキシアニオン基、オキソ基、ニトロ基、ハロゲン基、スルホン基、アシル基、カルボン酸基もしくはその誘導体、アミノ基、アルキルアミノ基、アミド基、またはフェニル基であり、Xiが炭素で、QiがXi単結合で結合する場合Qiは2つまで存在可能であり、QiがXiと二重結合で結合する場合Qiは、酸素(=O)、硫黄(=S)、窒素(=NR)、または炭素(=CRR’)であり、窒素、または炭素の場合さらに置換基(RもしくはR’)を有しても良く、
Q1 とQ2が置換基を通して結合しで環を形成しても良く、
Zは、酸素、硫黄のいずれかであり、
Tは、水素原子、または任意の置換基であり
nは、金属錯体の電荷を表し、正の整数、0、または負の整数である。
IPC (8)：
B01J 31/22 ( 200 6.01)
, C07C 53/02 ( 200 6.01)
, C07C 51/00 ( 200 6.01)
, C07D 213/81 ( 200 6.01)
, C07D 233/66 ( 200 6.01)
, C07D 307/56 ( 200 6.01)
, C07D 333/38 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
B01J 31/22 Z
, C07C 53/02
, C07C 51/00
, C07D 213/81
, C07D 233/66
, C07D 307/56
, C07D 333/38
, C07B 61/00 300
