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J-GLOBAL ID:202103013886131610
レジスト組成物及びレジスト組成物の製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (4):
杉村 憲司
, 杉村 光嗣
, 寺嶋 勇太
, 結城 仁美
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2019210795
Publication number (International publication number):2021081657
Application date: Nov. 21, 2019
Publication date: May. 27, 2021
Summary:
【課題】レジストパターンの形成に用いた場合に欠陥が生じにくいレジスト組成物、及びかかるレジスト組成物の製造方法を提供する。【解決手段】溶媒と、芳香族ビニル単量体単位及びα-ハロゲノ(メタ)アクリル酸エステル単量体単位を有し、且つ、分子量分布の値が、2.50超7.00以下である、重合体と、を含む、レジスト組成物である。【選択図】なし
Claim (excerpt):
溶媒と、
芳香族ビニル単量体単位及びα-ハロゲノ(メタ)アクリル酸エステル単量体単位を有する重合体と、を含む、レジスト組成物であって、
前記重合体の分子量分布の値が、2.50超7.00以下である、
レジスト組成物。
IPC (3):
G03F 7/039
, C08F 220/22
, C08F 212/04
FI (3):
G03F7/039 501
, C08F220/22
, C08F212/04
F-Term (19):
2H225AM10P
, 2H225AM14P
, 2H225AM30P
, 2H225AN31P
, 2H225CA12
, 2H225CB18
, 2H225CC03
, 2H225CC20
, 2H225CD05
, 4J100AB03Q
, 4J100AL08P
, 4J100BB01P
, 4J100CA04
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100FA28
, 4J100JA38
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