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J-GLOBAL ID：202103019379905440

ガス製造システム及びガス製造方法

Inventor： 明田川 恭平 ,  平敷 勇 ,  野崎 智洋 ,  坂田 謙太
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
Agent (4)： 大岩 増雄 ,  竹中 岑生 ,  村上 啓吾 ,  吉澤 憲治
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2019017116
Publication number (International publication number)：WO2020217289
Application date： Apr. 23, 2019
Publication date： Oct. 29, 2020
Summary：

ガス製造システムは、被処理ガス(8)の流路(9)を形成する反応器(2)、電圧が印加される第一の電極(3)及び第二の電極(4)、及び流路(9)に配置され触媒を含む触媒層(5)を有するガス製造装置と、第一の電極(3)及び第二の電極(4)に印加する電圧を発生させる電圧発生手段(12)と、被処理ガス(8)をガス製造装置に供給するガス供給手段と、を備え、電圧発生手段(12)は、被処理ガス(8)に応じて電圧の周波数を設定する周波数設定手段(13)を有し、第一の電極(3)と第二の電極(4)との間に発生したプラズマを触媒層(5)に照射し、被処理ガス(8)を改質して生成ガス(11)を得る。

Claim (excerpt)：

触媒にプラズマを照射して被処理ガスを改質し生成ガスを製造するガス製造システムにおいて、 電圧を発生させる電圧発生手段と、 前記電圧発生手段により発生させた電圧を用いて前記触媒に照射するプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、 前記被処理ガスに応じて前記電圧の周波数を設定する周波数設定手段と、を備えるガス製造システム。

IPC (3)：

C01B 3/26 ,  B01J 23/755 ,  B01J 19/08

FI (3)：

C01B3/26 ,  B01J23/755 M ,  B01J19/08 E

F-Term (29)：

4G075AA03 ,  4G075AA61 ,  4G075BA01 ,  4G075BA05 ,  4G075CA02 ,  4G075CA47 ,  4G075CA51 ,  4G075CA54 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB21 ,  4G075EB41 ,  4G075EC06 ,  4G075EC21 ,  4G075FC15 ,  4G140DA03 ,  4G140DB01 ,  4G140DB04 ,  4G169AA04 ,  4G169BB02A ,  4G169BC29A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169CB81 ,  4G169GA03