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J-GLOBAL ID:202104002161084228  Research Project code:7700400076

高度電子機器用回路のためのセラミックス膜形成方法の開発

高度電子機器用回路のためのセラミックス膜形成方法の開発
Study period:2002 - 2003
Organization (1):
Research responsibility: ( , 応用セラミックス研究所, 教授 )
Terms in the title (5):
Terms in the title
Keywords automatically extracted from the title.
Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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