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J-GLOBAL ID：202104015326767850
Research Project code：07051030
極微細加工用レジスト研究とプロセスシミュレーターの開発
極微細加工用レジスト研究とプロセスシミュレーターの開発
National award number：JPMJCR0745
Study period：2007 - 2012
Organization (1)：
Principal investigator：
(
, 産業科学研究所, 教授 )
DOI：
https://doi.org/10.52926/JPMJCR0745
Research overview：
イオン化放射線(EUV、電子線等)を用いる極微細加工用レジスト中に起きる反応機構を解明し、ナノ分子設計およびプロセス設計に活用し、プロセスシミュレーターの開発を行います。
Terms in the title (6)：
Terms in the title
Keywords automatically extracted from the title.
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Research program：
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Parent Research Project：
次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究
Organization with control over the research：
Japan Science and Technology Agency
