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J-GLOBAL ID：202104018229881923
Research Project code：07051068
アダプティブパワーフォトニクスの基盤技術
アダプティブパワーフォトニクスの基盤技術
National award number：JPMJCR07J5
Study period：2007 - 2012
Organization (1)：
Principal investigator：
(
, レーザーエネルギー学研究センター, 教授 )
DOI：
https://doi.org/10.52926/JPMJCR07J5
Research overview：
高出力超短パルスレーザー光がもつ潜在能力を極限まで引き出すことにより、レーザー光と物質との相互作用を多様かつ高精度に制御することが可能となります。そのために、半導体レーザー励起固体レーザーによる光パラメトリック増幅を基盤として出力30TW級の数サイクルレーザーを開発し、世界的に競争力のある基幹装置として利用研究に供していきます。さらに、時間的・空間的位相制御や偏光分布制御技術を取り入れ、アダプティブな制御機能を有するパワーフォトニクスの基盤技術をまとめ上げます。
Terms in the title (1)：
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Research program：
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Parent Research Project：
新機能創成に向けた光・光量子科学技術
Organization with control over the research：
Japan Science and Technology Agency
