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J-GLOBAL ID：202104018362776180
Research Project code：11102642
固液界面反応設計による新規高純度シリコン材料創製プロセスの構築
固液界面反応設計による新規高純度シリコン材料創製プロセスの構築
National award number：JPMJCR11Q3
Study period：2011 - 2016
Organization (1)：
Principal investigator：
(
, 理工学術院, 教授 )
DOI：
https://doi.org/10.52926/JPMJCR11Q3
Research overview：
高純度Siの製造には長時間にわたる超高温反応を必要とし、生産面・コスト面の大きな課題となっています。本研究は、固相や液相などの界面で起こる電解反応系に着目し、その原子レベルからの解明と精密な反応設計を実現し、低エネルギーかつ高速に高純度Siを生成するクリーンなプロセスを開発します。また国内にも豊富に存在する珪藻土を原料とする新しい製造プロセスを開発し、高純度Siの安定供給という資源確保戦略にも貢献します。
Terms in the title (7)：
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Research program：
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Parent Research Project：
太陽光を利用した独創的クリーンエネルギー生成技術の創出
Organization with control over the research：
Japan Science and Technology Agency
