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J-GLOBAL ID:202203000825877183

修飾無機ナノシートの製造方法、及び修飾無機ナノシート

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 今 智司
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2021078716
Patent number:7031833
Application date: May. 06, 2021
Summary:
【課題】実質的に完全剥離した無機ナノシートのそれぞれを修飾できる修飾無機ナノシートの製造方法、及び修飾無機ナノシートを提供する。 【解決手段】修飾無機ナノシートの製造方法は、無機ナノシートと水とを含む無機ナノシート分散液中で重合開始剤を用いてモノマーを重合させ、モノマーによる分解性ゲルを生成する分解性ゲル生成工程と、分解性ゲルに修飾剤を加え、修飾剤で無機ナノシートを修飾する修飾工程と、分解性ゲルを除去するゲル除去工程とを備える。 【選択図】図1
Claim (excerpt):
【請求項1】 無機ナノシートと水とを含む無機ナノシート分散液中で重合開始剤を用いてモノマーを重合させ、前記モノマーによる分解性ゲルを生成する分解性ゲル生成工程と、 前記分解性ゲルに修飾剤を加え、前記修飾剤で前記無機ナノシートを修飾する修飾工程と、 前記分解性ゲルを除去するゲル除去工程とを備える修飾無機ナノシートの製造方法。
IPC (9):
C01G 33/00 ( 200 6.01) ,  C09C 3/08 ( 200 6.01) ,  C08F 8/00 ( 200 6.01) ,  C08F 2/44 ( 200 6.01) ,  C08F 292/00 ( 200 6.01) ,  C08K 3/013 ( 201 8.01) ,  C08L 101/14 ( 200 6.01) ,  B82Y 30/00 ( 201 1.01) ,  B82Y 40/00 ( 201 1.01)
FI (9):
C01G 33/00 A ,  C09C 3/08 ,  C08F 8/00 ,  C08F 2/44 A ,  C08F 292/00 ,  C08K 3/013 ,  C08L 101/14 ,  B82Y 30/00 ,  B82Y 40/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
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